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第37章 nm光刻机正式开始研发(第2页)

怎么做到的?

不是,陆隐的脑子是怎么长的?

现在的年轻人,都这么可怕吗?

曾泉感觉人都麻了,被惊得说不出话,他现在算是明白,赵光誉这个老家伙,为什么一定要让他来监工实验室了。

不过为什么就不能提前透露一点,让他一直蒙在鼓里,是怕他乱说?

他是那种大嘴巴的人吗?

给几个孩子都签了保密协议,也都透露了不少内幕,就是不跟他说,是故意看他出丑的吧!

真是可恶!

曾泉在心里把赵光誉骂了好几轮,但还是有些开心,说到底老赵头对他还是有点子感情的,居然这这等美差都给自己了。

转头环顾一周,发现京大的李教授和他的研究生们今天都没有来,看来这事不仅他一人被瞒着。

这几个家伙还不知道他们错过了什么吧?

这样一想,心里更加开心了。

办公室。

陆隐将门反锁后,躺在椅子上,让意识彻底沉入了脑海。

“小a,把关于1n光刻机的资料全部调出来。”陆隐说道。

【好的】

脑海中,随着小a声音的出现,一沓厚厚的资料出现在脑中的光晕里。

陆隐手指一点,资料缓缓摊开,漂浮在眼前。

首先就是光刻机的总体结构,大概分为照光系统,掩模台系统,自动对准系统,调平调焦对准系统,框架减震系统……等。

而光刻机的整个结构中,最难的地方在于高精度的光源和光刻胶、镜头、对准技术等。

光刻机的核心难点在于光源技术,特别是极紫外线光刻机的光源技术。

在极紫外线技术出现之前,深紫外线光刻机是主流,它们使用193纳米波长的短波紫外线。

而极紫外线光刻机则使用135纳米的极紫外线,这要求极高的精度和稳定性。

另外,光刻胶是光刻过程中的关键材料,其性质和特性对芯片制造有重大影响。

光刻胶的厚度、硬度、粘度等属性都需要精确控制,以实现高精度的图案转移。

镜头技术也很重要,光刻机的镜头需要极高的纯度和精度,以确保图案的精确投影,这涉及到光学误差的控制,要求系统具有极高的精度。

除此之外,还有对准技术。

在光刻过程中,将掩膜上的图案精准对位到硅片上是关键步骤,这需要高精度的光学、机械和计算机控制技术。

此外,光刻机对工作环境要求也是极为严格,光刻机的工作环境必须绝对无尘,以确保芯片生产的精度和质量,同时,工作台必须具有高精度,以确保多次曝光和对准时的高度准确性。

其中的技术成本和难度也是极大的,光是技术领域就涉及光学、机械、电子、计算机等多个领域。

用到的材料和设备成本也是极为高昂,且制造周期极长,总的来说,这是一项比制作激光武器还要精细且费精力的研发。

但,1n光刻机的研发,势在必行!

这是华国想要解除西方列国科技封锁的重要一步,无论失败多少次,都必须要做到!

一个小时后,陆隐拿着厚厚一沓资料打开了办公室的门。

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